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扫描电子偏光显微镜的发展及变化

发布人:shpuda发布时间:2014/4/30

    1930年以来,透射式电子偏光显微镜发展极快,1940年制成了扫描电子显徽镜,到20世纪50年代,由于电子透镜像差校正理论的发展和加工技术的提高,给微电子束的形成创造了条件,为制造具有广泛应用的扫描电子偏光显微镜打下了良好的基础,但当时扫描电子偏光显微镜应用的还是背敞射电子成像,由于背散射电子的能量较大,很难排除杂散电子和二次电子的干扰,成像分辨率和放大倍数均不高,分辨率在100nm左右,放大倍数只有6000-10000倍。70年代开始,扫描电镜的分辨率达到优于20nm和放大倍数达1千万倍以上。


    实验室中制成的扫描透射电子偏光显微镜已达到优于0.5nm分辨率的新水平,此外,还增加了许多图像观察,如吸取电子图像、电子荧光图像、扫描透射电子图像、电位对比图像、x射线图像,还可安装X射线显微分析装置等,因而一跃而成为各种科学研究领域(如地学,生物学,医学,冶金)、机械加工及工业部门(如纺织纤维、玻璃丝、塑料制品和陶瓷产品的检验,半导休制造、集成电路质量检查)等广泛应用的有力工具。


    扫描电镜采用扫描技术,是详细研究表面立体构造的有效工具,它在许多方面都比光学显微镜和透射式电子偏光显微镜优越:它的聚焦景深大,粗糙的样品表面都可以构成细致详细的图像;放大倍数可以连续变化,由20倍增至几十万倍以上,因此可以对所有表面情况作细致详细的观察;所用的样品很少,甚至完全不需要特殊的制备过程,不破坏样品,实现无损观察分析;因景深长,可以任意地在三维空间内构成样品立体感很强的清晰图像,配置X射线分光仪或用非分光法,可直接探测样品表面的成分,因而可兼有显微分析仪的功能,能使样品处于多种特殊环境条件下进行试验观察,如力学弯曲、磁学、电导性能观察测定,高低温条件下的相变及形态变化等等。

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